氧化鎵真空蒸餾提純爐
- 信息介紹
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1. 設(shè)備用途
本產(chǎn)品為臥式對(duì)開(kāi)式結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)新穎外形美觀(guān)。主要供生產(chǎn)企業(yè)在高真空或保護(hù)氣氛條件下對(duì)氧化鎵等氧化物進(jìn)行還原并蒸餾提純使用，可以用于5N以上單質(zhì)金屬的制備使用。
2. 設(shè)備圖
主要技術(shù)參數(shù)
3.1 感應(yīng)電源功率：≤70KW IGBT中頻電源
3.2 電源電壓：380V、3相、50Hz
3.3 設(shè)計(jì)溫度：1000-1400℃
3.4 坩堝容量：25Kg（以鋼液7.8g/cm3密度比重計(jì)算）
3.5極限真空度：6.7*10-3Pa（冷態(tài)，潔凈，無(wú)坩堝保溫層）
3.6保護(hù)氣氛：氮?dú)狻鍤狻?.03MPa
3.7配置冷凝收集罩裝置。
3.8外形尺寸：3500×1800×2400mm(L×W×H)
3.9控制方式：14寸觸摸屏+plc具備權(quán)限管理 APP遠(yuǎn)控功能
