一、設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

(1) 型號(hào)： KDH-500ES  KDH-1000ES KDH-1200ES

(2) 電弧熔煉室：立式圓筒型側(cè)部開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)真空室

(3) 真空系統(tǒng)配置：機(jī)械泵、機(jī)械泵+擴(kuò)散泵、機(jī)械泵+分子泵 (根據(jù)需要選擇）

(4) 冷態(tài)極限真空度 ≤5.0x10-4Pa（分子泵啟動(dòng)后20分鐘內(nèi)達(dá)到5.0*10-3pa以上）

(5) 真空腔室的漏率滿(mǎn)足≤10-8 Pa·m3/s，經(jīng)氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏。

(6) 熔煉電流：額定電流500-1200A(根據(jù)熔煉容量和溫度選擇熔煉電源電流配置）

(7) 溫度：3500℃

(8) 熔煉坩堝： 設(shè)計(jì)有6~8個(gè)工位，根據(jù)需要配置，可定制坩堝形狀和容量，配置吸鑄、澆鑄，電磁攪拌等

(9) 水冷銅坩堝安裝方式采用從爐架底部安裝的方式，避免更換爐底拆除腔體等繁重工作，避免破壞爐體整體密封。

(10) 工作氣體：Ar氣；

(11) 翻料方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件

(12) 電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

(13) 電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效

(14) 電極桿升降、電極搖擺、熔煉及更換工位全部采用電動(dòng)方式，可水平360度萬(wàn)向更換方向，設(shè)計(jì)手持式操作按鈕盒，無(wú)負(fù)重操作方便省力。

(15) 爐體側(cè)部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，爐門(mén)水冷并設(shè)計(jì)大口徑門(mén)觀(guān)察窗，方便觀(guān)測(cè)內(nèi)部熔化情況。

(16) 控制方式：昆侖通態(tài)14寸嵌入式工控式觸摸屏+歐姆龍plc